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AMEKO試劑:超敏ECL化學(xué)發(fā)光底物

產(chǎn)品時(shí)間:2024-11-13

簡要描述:

AMEKO試劑:超敏ECL化學(xué)發(fā)光底物
主營品牌:Lanso、Ameko、Sigma、Amresco、Abcam、Spectrum、Axygen、Corning、Gibco、Hyclone、Invitrogen、Millipore、Roche、Aladdin、Tci、Merck、Qiagen、Supelco、Vetec、Sab、Oxoid

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ECL化學(xué)發(fā)光底物(超敏)

產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

規(guī)格

RC52314

ECL化學(xué)發(fā)光底物(超敏)

100 ml

RC52314

ECL化學(xué)發(fā)光底物(超敏)

500ml

產(chǎn)品簡介:

 ECL超敏發(fā)光液用于檢測直接或間接標(biāo)記辣根過氧化物酶HRP的抗體及其關(guān)聯(lián)的抗原。

產(chǎn)品組份:

產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

規(guī)格

RC52314

    增強(qiáng)型發(fā)光液   A液

50ml/250ml

RC52314

    穩(wěn)定劑   B 液

50ml/250ml

 

用途:用于HRP標(biāo)記抗體的Western Blot和HRP標(biāo)記探針的核酸雜交。

產(chǎn)品特點(diǎn):

1、靈敏度高:可檢測低皮克級的蛋白;

2、信號持續(xù)時(shí)間長:光信號持續(xù)時(shí)間長達(dá)5小時(shí);

3、穩(wěn)定試劑:工作液在24小時(shí)內(nèi)保持穩(wěn)定;

4、成像方法:適用于CCD或激光凝膠成像儀;

5、價(jià)格經(jīng)濟(jì):針對稀釋的抗體濃度條件進(jìn)行了優(yōu)化,節(jié)省抗體:

一抗:以1 µg/mL儲存液稀釋1:1,000至1:4,000倍

二抗:以1 µg/mL儲存液稀釋1:2,000至1:5,000倍

6、簡單易用:可替代其它公司的ECL發(fā)光底物,操作步驟無需進(jìn)行特別優(yōu)化;

使用方法:

1、執(zhí)行常規(guī)SDS-PAGE、轉(zhuǎn)膜和Western Blot步驟。注意用HRP標(biāo)記IgG或用一抗-鏈親和素-生物/素-HRP夾法。

2、 Western Blot最后一次洗膜的同時(shí)新鮮配制發(fā)光工作液:分別取等體積的溶液A和B,放入干凈容器中混合。建議立即使用工作液,室溫放置數(shù)小時(shí)后仍可使用但靈敏度略有降低。

3、 用鑷子取出膜,搭在濾紙上瀝干洗液但勿使膜干燥。將膜浸入發(fā)光工作液(0.125mL發(fā)光工作液/cm2膜)中,與發(fā)光工作液充分接觸。室溫孵育3分鐘,準(zhǔn)備立即壓片曝光。孵育時(shí)間過長不會增加靈敏度,有時(shí)還會導(dǎo)致曝光條帶異常。發(fā)光過程的本質(zhì)是酶促反應(yīng),使用過少的發(fā)光工作液不利反應(yīng)進(jìn)行,也會導(dǎo)致膜上條帶曝光不均和明顯降低靈敏度。為達(dá)節(jié)約目的可將膜剪小但勿降低發(fā)光液用量。

4、 用鑷子夾起膜,搭在濾紙上瀝干發(fā)光工作液。但勿洗去發(fā)光液。

5、 打開X光膠片暗盒,在暗盒內(nèi)表面鋪一張面積大于膜的保鮮膜。將Western Blot膜貼在保鮮膜上,將保鮮膜折起來包裹Western Blot膜,去除氣泡和皺褶,可剪去邊緣部多余的保鮮膜。用濾紙吸去多余的發(fā)光工作液。用膠帶將覆蓋Western Blot膜的保鮮膜固定在暗盒內(nèi),蛋白帶面向上。

6、 暗房內(nèi)壓X光膠片,分別曝光不同的時(shí)間,如數(shù)秒到數(shù)分鐘。顯影沖洗。建議第一次曝光 60 秒,之后可調(diào)整曝光時(shí)間以達(dá)到最佳結(jié)果。化學(xué)發(fā)光反應(yīng)在底物孵育后的前 5-30 min期間是強(qiáng)烈的。這一反應(yīng)可以持續(xù)幾個(gè)小時(shí),但強(qiáng)度會隨時(shí)間下降,如有底物孵育后較長時(shí)間后曝光,曝光時(shí)間可能需要延長以獲得較強(qiáng)信號。          

注意事項(xiàng):

(1)步驟1~5可在日光燈下操作;但發(fā)光液曝露于強(qiáng)光下時(shí)間過久靈敏度可能略有降低,移到暗房操作可避免之。

(2)長時(shí)間曝光或蛋白過量,將加深背景并使條帶強(qiáng)弱變化失去線性關(guān)系。曝光不足則條帶模糊。

(3)發(fā)光工作液孵育約3分鐘后膜上的條帶發(fā)光。強(qiáng)條帶發(fā)光在暗房中肉眼可見,低豐度蛋白條帶發(fā)光較弱甚至肉眼不可見但可使X光膠片曝光。肉眼不可見的熒光實(shí)際上可持續(xù)數(shù)小時(shí)并使X光膠片感光,因而弱帶可曝光1-10小時(shí)。如果曝光后條帶不佳,可用洗膜緩沖液洗膜,重新孵育二抗,然后重新用ECL發(fā)光和曝光。

(4)由于超敏發(fā)光液極其靈敏,建議按照推薦比例稀釋抗體。抗體濃度過高將造成高背景或沒有條帶,導(dǎo)致失敗。

(5)某些保鮮膜包裹印跡膜時(shí)可能會淬滅熒光,應(yīng)選擇高質(zhì)量保鮮膜。

(6)使用肉眼可見的預(yù)染色蛋白Marker和熒光-放射自顯影曝光標(biāo)簽可精確確定膠片上條帶的位置和大小。

(7)疊氮鈉是 HRP 的抑制物,不要使用疊氮鈉作為緩沖液的防腐劑。

問題解答:

問題

可能問題

解決方案

膠片上有反轉(zhuǎn)像(即黑色背景,白色帶)

 

系統(tǒng)中HRP過多

 

將HRP標(biāo)記二抗稀釋至少10倍

膜上有褐色或黃色帶

印記在暗室中發(fā)光

信號持續(xù)時(shí)間少于8小時(shí)

 

信號弱或無信號

系統(tǒng)中過多的HRP耗盡了底物并導(dǎo)致信號迅速衰減

將HRP標(biāo)記二抗稀釋至少10倍

抗原或抗體的量不足

增加抗體或抗原的量

蛋白質(zhì)轉(zhuǎn)移率低

優(yōu)化轉(zhuǎn)印

HRP   或底物活性低

見下文注釋

 

 

高背景

系統(tǒng)中   HRP 過多

將HRP標(biāo)記二抗稀釋至少 10 倍

封閉不充分

優(yōu)化封閉條件

封閉式機(jī)不合適

嘗試一種不同的封閉試劑

洗滌不充分

增加洗滌時(shí)間、次數(shù)或洗滌緩沖液體積

膠片過度曝光

縮短曝光時(shí)間或使用背景消除劑

抗原或抗體的濃度太高

減少抗體或抗原的量

 

蛋白質(zhì)條內(nèi)有斑點(diǎn)

蛋白質(zhì)轉(zhuǎn)膜效率低

優(yōu)化轉(zhuǎn)印流程

膜的水化不均勻

按照制造商建議適度的使膜水化

膠片與膜之間存在氣泡

在膠片曝光前,去除氣泡

膠片上背景有斑點(diǎn)

HRP   標(biāo)記二抗中存在聚集物

使用   0.2um 的過濾器

非特異性條帶

系統(tǒng)中   HRP 過多

將HRP標(biāo)記二抗稀釋至少10倍。

SDS   導(dǎo)致的蛋白非特異性結(jié)合

在檢測過程中不使用   SDS

*為檢測系統(tǒng)活性,在暗室中,在一個(gè)清潔試管中制備1-2ml工作液。關(guān)閉燈,添加1ul未稀釋的HRP標(biāo)記二抗工作液。該溶液應(yīng)當(dāng)立即發(fā)出藍(lán)色光,藍(lán)光信號在隨后的幾分鐘漸淡。

AMEKO試劑:超敏ECL化學(xué)發(fā)光底物

AMEKO試劑:超敏ECL化學(xué)發(fā)光底物

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